荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥回應(yīng)出口管制：并非所有浸潤式DUV設(shè)備出口都需獲得荷蘭政府許可
2023-06-30 15:54:52
來源：
同花順7x24快訊
荷蘭政府于今日頒布了有關(guān)半導(dǎo)體設(shè)備出口管制的新條例。荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥公司(ASML)在聲明中表示，這些新的出口管制條例針對對象為先進(jìn)的芯片制造技術(shù)，包括最先進(jìn)的沉積設(shè)備和浸潤式光刻系統(tǒng)，并非部分媒體報道的所有浸潤式DUV光刻系統(tǒng)。根據(jù)新出口管制條例規(guī)定，ASML需要向荷蘭政府申請出口許可證才能發(fā)運(yùn)最先進(jìn)的浸潤式DUV系統(tǒng)(即TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng))。荷蘭政府將決定是否授予或拒發(fā)出口許可證，并將向ASML提供許可證所附條件的細(xì)節(jié)。 (中國日報)
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